純度99.9***鈦靶材 濺射靶材 鍍膜材料 高純Ti靶 圓形靶

                                        聲明由于原材料價(jià)格波動(dòng)較大，且產(chǎn)品價(jià)格與產(chǎn)品尺寸、純度等因素密切相關(guān)，請廣大用戶下單前務(wù)必咨詢客服，否則概不發(fā)貨！謝謝您的理解與支持！鈦靶材Titanium Target我們能提供的產(chǎn)品純度：99.5%,99.7%，99.8%,99.9%,99.95%，99.***，99.995%.我們的提供的形狀尺寸：平面靶，柱狀靶，電弧靶，異型靶等等。 鈦的原子序數(shù)22，原子量47.867，是一種銀白色的過渡金屬，其特征為重量輕、強(qiáng)度高、具金屬光澤，耐濕氯氣腐蝕。α型鈦為六方晶系、β型鈦為立方晶系。轉(zhuǎn)變溫度為882.5℃。熔點(diǎn)(1660±10)℃，沸點(diǎn)3287℃，密度為4.506g/cm3。溶于稀酸，不溶于冷水和熱水；耐海水腐蝕性很強(qiáng)。鈦是20世紀(jì)50年代發(fā)展起來的一種重要的結(jié)構(gòu)金屬，鈦合金具有密度低、比強(qiáng)度高、耐蝕性好、導(dǎo)熱率低、***無磁、可焊接、生物相容性好、表面可裝飾性強(qiáng)等特性，廣泛應(yīng)用于航空、航天、化工、石油、電力、醫(yī)療、建筑、體育用品等領(lǐng)域。 靶材的純度對薄膜的性能影響很大，通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)。對于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。 北京瑞弛供應(yīng)的鈦靶，純度可達(dá)99.995%，生產(chǎn)工藝包括熔煉、熱變形，長度4000mm，寬度350mm。晶粒細(xì)小，分布均勻，純度高，夾雜物少，純凈度高，沉積的TiN薄膜應(yīng)用于裝飾，工模具、半導(dǎo)體等領(lǐng)域，附著力好，涂層均勻，顏色鮮艷。  我們生產(chǎn)的高純鈦靶參數(shù)：

電阻率	54 ?Ohmcm
超導(dǎo)臨界溫度	0.4000K
溫度系數(shù)	0.00380K??
抗拉強(qiáng)度	230.00 - 460.00 MPa
密度	4.5g/cm?
熔點(diǎn)	1660°C
沸點(diǎn)	3287°C
蒸發(fā)潛熱	8893J g??
導(dǎo)熱系數(shù)	21.90 W m?? K??

 我們還可以生產(chǎn)其他鈦合金靶材：TiAl5 at%,TiAl10 at%,TiAl20 at%,TiAl25 at%,TiAl30 at%,TiAl40 at%,TiAl50 at%, TiTa,TiSi5 at%,TiSi 10at%,TiSi15 at%,TiSi20 at%,TiSi25 at%,TiSi75 at%,TiAlNb,TiAlSi,TiZr,TiLa,TiCe,TiV,TiAlZrSi,TiAlAg,TiAlLa,TiAlRe, TiZrAlRe, TiSiB, TiN,TiAlB,TiSiB,TiCrAlSiB,TiAlCu,TiB?...多種純度可供選擇：99.5%，99.8%，99.9%，99.***...