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經(jīng)營范圍: 萬代、 化工、









氨基磺酸鎳 在電鍍過程中,由于金屬的結(jié)晶有一定變形或有異相雜入,會產(chǎn)生一定內(nèi)應(yīng)力。當(dāng)內(nèi)應(yīng)力較大時(shí),表現(xiàn)在宏觀上就是鍍層硬度大,容易起皮、開裂、延展性變差。這種現(xiàn)象在鍍鎳過程中尤其明顯。影響鍍鎳層內(nèi)應(yīng)力的因素較多,常見的影響因素有工藝參數(shù)方面的也有鍍液成分和雜質(zhì)方面的。PH值不正常當(dāng)鍍鎳液的PH值升高時(shí),陰極區(qū)由于有析氫現(xiàn)象而有更高的PH值,會產(chǎn)生氫氧化鎳微粒雜入鍍層,除油粉廠家,增加鍍層硬度。當(dāng)希望得到較軟的鎳鍍層時(shí),其PH值應(yīng)當(dāng)維持在較低的范圍,比如在3.8-4.1之內(nèi)。調(diào)整時(shí)應(yīng)該使用稀釋過的硫酸。試驗(yàn)表明,每消耗1mol的Ni2+同時(shí)生成3mol的H+,即就是在1L鍍液中,若消耗0。
氨基磺酸鎳 氨基磺suan鎳鍍液能獲得比傳統(tǒng)的硫suan鎳鍍液機(jī)械性能更優(yōu)良的金屬鍍層,它的鍍層內(nèi)應(yīng)力低、極限強(qiáng)度高、沉積速度快、孔隙率低、再配合添加劑的使用能得到更佳的外觀,適用于印制電路板或電鑄。氨基磺suan鹽鍍液是一種多用途的鍍液,在較低的溫度和較小的電流密度操作時(shí),能夠得到應(yīng)力較小甚至無應(yīng)力的鍍層,在一般條件下操作應(yīng)力也較瓦特型溶液小。氨基磺saun鎳鍍液只要添加少量的應(yīng)力減少劑,電鍍除油粉,就能夠明顯地降低鍍層應(yīng)力。
一般來說,厚度較大時(shí),除油粉,可選擇氨基磺suan鎳精度較高的標(biāo)尺直接測量橫斷面寬度;厚度較小時(shí),則采用目鏡測微尺。由于覆蓋層厚度往往在幾微米至幾十微米之間,因此一般都采用目鏡測微尺來進(jìn)行測量。 此外,除油劑除油粉,氨基磺suan鎳隨著光學(xué)顯微鏡向數(shù)字化光電圖像顯示的發(fā)展,數(shù)字化顯微鏡圖像檢測技術(shù)開始應(yīng)用到覆蓋層測厚領(lǐng)域。該技術(shù)使用高分辯率CCD和CMOS攝像機(jī),將顯微鏡的光學(xué)圖像轉(zhuǎn)換到計(jì)算機(jī)中,然后用專用的測量軟件系統(tǒng)進(jìn)行圖像測量。
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