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經(jīng)營(yíng)范圍: 不銹鋼、 萬(wàn)代、 化工、









氨基磺酸鎳 氨基磺suan鎳資訊:氨基磺suan鎳電鍍液的方法。該方法由兩個(gè)步驟組成,首先電鍍液經(jīng)受還原處理至溶液不能用來(lái)進(jìn)行電鍍;然后再將該鍍液進(jìn)行緩慢的氧化處理,直到它再適宜于進(jìn)行電鍍?yōu)橹?。在還原步驟中,是由加入不引進(jìn)對(duì)電鍍過(guò)程有害的陽(yáng)離子的化學(xué)還原劑來(lái)實(shí)施,并且維持在惰性氣氛下進(jìn)行還原過(guò)程。 氨基磺suan鎳用途主要用于精密電鍍印刷線路板電鍍等行業(yè)其優(yōu)點(diǎn)是鍍層的內(nèi)應(yīng)力低沉積速度快。氨基磺suan鎳鍍鎳主要是功能性電鍍,所以鍍層的機(jī)械性能就非常重要。 氨基磺suan鎳是一種優(yōu)良的電鍍主鹽,為深綠色透明液體,在高溫或較低的pH值下易水解。易溶于水,液氨,yi醇,微溶于bin酮,水溶液呈酸性,有吸濕性,潮濕空氣中很快潮解。
氨基磺酸鎳目前,常用電鍍鍍鎳液體系包括硫suan鎳鍍液體系、氯hua鎳鍍液體系、氟硼酸鎳鍍液體系和氨基磺suan鎳鍍液體系等。其中,不銹鋼除油粉,氨基磺suan鎳鍍液具有工藝范圍寬、可獲得低應(yīng)力鍍層等優(yōu)點(diǎn),多用于對(duì)機(jī)械性能要求較高的電鍍領(lǐng)域。然而,氨基磺suan鎳鍍液在制備過(guò)程中由于原材料含有的雜質(zhì)或配制工藝不當(dāng)引入的雜質(zhì)會(huì)在一定程度上導(dǎo)致鍍層機(jī)械性能的改變,如內(nèi)應(yīng)力增加等(雜質(zhì)成分包括銅離子、鋅離子、鐵離子等陽(yáng)離子及有機(jī)物等)。此外,新配制氨基磺suan鎳鍍液的PH值范圍一般在3.0?3.2,而正常使用的pH值范圍在3.8?4.5,堿性除油粉,因此在使用前需提升PH值。一般情況下,提升鍍液pH值可加入氫氧hua鈉等強(qiáng)堿溶液(如針對(duì)硫suan鎳鍍液體系),但是在氨基磺suan鎳鍍液體系中加入上述溶液后,引入的雜質(zhì)離子如鈉離子等會(huì)導(dǎo)致鍍層內(nèi)應(yīng)力的增加。其中很重要的一點(diǎn)是對(duì)陽(yáng)極材料和化學(xué)原料的選擇,不可以因貪圖便宜而采用雜質(zhì)多的工業(yè)化學(xué)原料和級(jí)別不高的陽(yáng)極,這是先天帶入雜質(zhì)和造成積累的最常見(jiàn)因素。而不引入雜質(zhì)離子的堿性鎳鹽(如氫氧化鎳或堿式碳酸鎳)在水中的溶解度極低,提升PH值效率過(guò)低,pH值幾乎無(wú)變化。如何在氨基磺suan鎳鍍液配制過(guò)程中凈化原材料含有的雜質(zhì),除油粉價(jià)格,并且不引入雜質(zhì),且能夠?qū)崿F(xiàn)PH值達(dá)到工藝要求,是***氨基磺suan鎳鍍液體系低應(yīng)力的難點(diǎn)技術(shù)。
主鹽──氨基磺suan鎳與硫suan鎳為鎳液中的主鹽,鎳鹽主要是提供鍍鎳所需的鎳金屬離子并兼起著導(dǎo)電鹽的作用。鍍鎳液的濃度隨供應(yīng)廠商不同而稍有不同,鎳鹽允許含量的變化較大。鎳鹽含量高,除油粉,可以使用較高的陰極電流密度,沉積速度快,常用作高速鍍厚鎳。但是濃度過(guò)高將降低陰極極化,分散能力差,而且鍍液的帶出損失大。氨基磺suan可以制成極純的常溫時(shí)穩(wěn)定的結(jié)晶體,其水溶液具有與鹽酸、硫酸同等的強(qiáng)酸性,別名固體硫酸。鎳鹽含量低沉積速度低,但是分散能力很好,能獲得結(jié)晶細(xì)致光亮鍍層。
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