氮化鋁靶材AlN磁控濺射靶材

科研實驗專用氮化鋁靶材AlN磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

氮化鋁（AlN）屬類金剛石氮化物、六方晶系，纖鋅礦型的晶體結(jié)構(gòu)，無毒，呈白色或灰白色，是共價鍵化合物，原子晶體。氮化鋁應(yīng)用於光電工程，包括在光學(xué)儲存介面及電子
基質(zhì)作誘電層，在高的導(dǎo)熱性下作晶片載體，以及作軍事用途。由于氮化鋁壓電效應(yīng)的特性，氮化鋁晶體的外延性伸展也用於表面聲學(xué)波的探測器。

產(chǎn)品參數(shù)
中文名 氮化鋁             沸點 2249
化學(xué)式 AlN                熔點 2200℃
密度 3.235g/cm3           純度 99.99%
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產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
交貨周期：現(xiàn)貨當(dāng)天發(fā)，常規(guī)期貨4周內(nèi)
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 
質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫